【前工程製造】
TTCは半導体デバイス製造向け、成熟プロセスから先進プロセスまで、あらゆるウェハーサイズに対応したトップメーカー装置を提供しています。
前工程に必要が装置として、露光装置 · コータ/デベロッパ · アッシャー装置 · エッチング装置 · イオン注入装置 · 拡散炉 · 成膜装置 · CMP装置 · エピタキシャル装置 · メッキ装置 · 洗浄装置 ·検査装置など扱っていおります。

1,露光装置:ウエハ上に回路パターンを転写するための装置です。
8&12インチ向けスキャンナー
・193nm (ArF) Scanner:12インチ メモリ、ロジック、MPU、MCU 向け
主なメーカー:ASML、Nikon、Canon
・248nm (KrF) Scanner:8 & 12インチ アナログIC、ASIC、DSP、CMOS/CCD 向け
主なメーカー:ASML、Nikon、Canon
8 & 6インチ 向けステッパー
・248nm (KrF) Stepper:8インチ アナログIC、ドライバーIC、ASIC、DSP、CMOS/CCD 向け
主なメーカー:ASML、Nikon、Canon
・365nm (i線) Stepper:8 & 6インチ センサー半導体、パワーデバイス、MEMS 向け
主なメーカー:ASML、Nikon、Canon、Ultratech
6インチまで向けステッパー
・405nm (h線) Stepper:6インチまで ディスクリート、オプト半導体(LED・LD) 向け
主なメーカー:Ultratech
・436nm (g線) Stepper:6インチまで オプト半導体(LED・LD)、高周波デバイス
主なメーカー:ASML、Nikon、Ultratech
マスクアライナ:
水銀ランプやエキシマレーザなどから放射される紫外線等を用いて、マスク(レチクル)の微細なパターンをワーク(試料)に転写・焼付する露光装置。
→ディスクリート、オプト半導体(LED・LD)、MEMS、高周波デバイス、センサーなど向け
主なメーカー: Canon、SUSS、EVG、DNK、USHIO、UNION
2,コーター/デベロッパー:感光剤であるフォトレジストの塗布および現像を行うための装置です。
主なメーカー:TEL、DNS(Screen)、SUSS、EVG、Canon、東京応化
3,アッシャー装置:フォトレジストをプラズマ化した酸素によってアッシング(灰化)します。
主なメーカー:Lam(Mattson)、Canon、Gasonics、PSC(Plasma System)、Fusion、日立国際電気、Ulvac、TOK
4,エッチング装置:イオンや薬液、ガスなどを使って、形成されている薄膜の形状を加工するための装置です。
主なメーカー:AMAT、LAM、TEL、日立ハイテク、Ulvac、東京応化、SAMCO、Oxford、SPTS、Plasma-Therm
5,イオン注入装置:半導体素子構造の材料となるウェーハに不純物イオン(リン・ボロンなど)を注入し、半導体を形成する装置です。
主なメーカー:Axcelis、AMAT、Varian、SEN、Nissin、Ulvac、AIBT
6,拡散炉:半導体表面近傍に不純物高濃度に層を堆積するプレデポジション(Pre-Deposition)用と堆積物から不純物を深部へ熱処理によって拡散するドライブイン(Drive-in)用の炉がある。
・拡散炉 主なメーカー:TEL、日立国際電気、光洋サーモシステム(JTEKT)、ASM、住友精密(Aviza)、CENTROTHERM
・RTP 主なメーカー:AMAT、TEL、日立国際電気、Axcelis、Lam(Mattson)、Samco
7,成膜装置:薄膜を形成するための装置です。CVDやスパッタリングなど、目的に応じて様々な手法がありますので、それぞれに適した成膜装置が存在しています。
CVDにおける主なメーカー:AMAT、Lam(Novellus)、TEL、天谷、Ulvac
Sputterにおける主なメーカー:AMAT、Ulvac、キャノンアネルバ、Varian、MRC、SPTS、AMS
Evaporatorにおける主なメーカー:Ulvac、シンクロン、オプトラン、FSE(台湾富臨)、AST(聚昌科技)、CELLO(崇文科技)
8,CMP装置:半導体デバイスのプラナリゼーション(平坦化)を行うために用いられる研磨装置
主なメーカー:AMAT、荏原
9,エピタキシャル装置:ガス制御技術をコア技術として、シリコンウェーハや SiCウェーハ上にシリコンやGaN、 SiCなどの単結晶を成長させるための装置
主なメーカー:AMAT、TEL、LPE、キャノンアネルバ
10,メッキ装置:ウエハー上に絶縁膜や半導体膜といった薄膜を積層形成し、電子回路の配線を作り出します
主なメーカー:AMAT、Lam(Novellus)、荏原、田中貴金属(EEJA)
11,洗浄装置:半導体製造の各工程で発生した微細な不純物、汚染などを取り除くために洗浄が行われます
・スクラバー装置 主なメーカー:TEL、DNS(Screen)
・洗浄装置 主なメーカー:DNS(Screen)、TEL、AMAT(Semitool)
12,検査装置:半導体製造の前工程(ウェハー処理~トランジスタ形成)では、微細化・高集積化が進む中で、ナノレベルの欠陥検出と高精度計測が不可欠です。
・光学式外観検査装置(Wafer Inspection System)
・電子線検査装置(SEM Inspection)
・欠陥レビューSEM(Defect Review SEM)
・薄膜厚さ測定装置(Thin Film Metrology)
・パーティクルカウンタ(Particle Counter) 当社は、半導体製造技術の進化に常に先んじ、お客様の生産ラインを強力にサポートします。業界の変化とお客様のニーズに迅速に対応できる柔軟性が、当社の最大の特徴です。
